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一种选域金刚石膜的制备方法

关键词 选域 , 金刚石膜 , 制备|2010-12-22 00:00:00|行业专利|来源 中国超硬材料网
摘要 名称一种选域金刚石膜的制备方法公开号1364945公开日2002.08.21主分类号C23C16/04

 

名称 一种选域金刚石膜的制备方法 
公开号 1364945  公开日 2002.08.21   
主分类号 C23C16/04  分类号 C23C16/04;C23C16/27 
申请号 01124619.7 
分案原申请号   申请日 2001.07.25   
颁证日   优先权  
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所    地址 130022吉林省长春市人民大街140号  
发明人 赵海峰;宋航;李志明;金亿鑫;邴秀华    国际申请  
国际公布   进入国家日期  
专利代理机构 长春科宇专利代理有限责任公司    代理人 梁爱荣   
摘要   本发明涉及制备金刚石薄膜的方法,在选域衬底的导电图形上生成籽晶衬底实现金刚石膜精确定域沉积;对籽晶衬底继续生长制备不同特性的金刚石膜。金刚石膜与衬底附着牢固;例如:制备金刚石场发射冷阴极,将电子发射区域有效地控制在所选择区域,集中密集发射。特别是在微尖(台)顶部预沉积籽晶并生长金刚石的冷阴极,可较好的利用场增强效应,避免发射点过于分散,有利于提高微尖处的电流
 

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