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       申请号：201720082795.4

       申请人：上海征世科技有限公司 

       发明人：龚闯 吴剑波 朱长征 余斌 

       摘要：本实用新型提供了一种互嵌结构的CVD金刚石膜片，包括：基板；设置于所述基板上的金刚石膜；形成在所述金刚石膜上表面的第一阻隔层；形成在所述第一阻隔层上表面的抗应力层，且在所述抗应力层的上表面具有多个凹槽106；形成在所述抗应力层的上表面且填充所述凹槽的第二阻隔层；形成在所述第二阻隔层上表面的硬质合金层。该金刚石膜层的防脱落能力相较现有技术加强了一倍以上，可以满足更高的切割要求。

       主权利要求:1.一种互嵌结构的CVD金刚石膜片，其特征在于，包括：基板；设置于所述基板上的金刚石膜；形成在所述金刚石膜上表面的第一阻隔层；形成在所述第一阻隔层上表面的抗应力层，且在所述抗应力层的上表面具有多个凹槽；形成在所述抗应力层的上表面且填充所述凹槽的第二阻隔层；形成在所述第二阻隔层上表面的硬质合金层。

       2.如权利要求1所述的互嵌结构的CVD金刚石膜片，其特征在于：所述金刚石层的厚度为0.5-1.5mm。

       3.如权利要求1所述的互嵌结构的CVD金刚石膜片，其特征在于：所述第一阻隔层的材料为氮化硅，所述第二阻隔层的材料为碳化硅，所述抗应力层的材料为聚酰亚胺。

       4.如权利要求1所述的互嵌结构的CVD金刚石膜片，其特征在于：所述第一阻隔层和第二阻隔层的厚度为0.05-0.2mm，所述抗应力层的厚度为1-10mm。

       5.如权利要求1所述的互嵌结构的CVD金刚石膜片，其特征在于：所述硬质合金层的厚度为2-10mm。

       6.如权利要求1所述的互嵌结构的CVD金刚石膜片，其特征在于：所述凹槽的厚度为0.1-0.3mm，宽度为0.2-0.4mm。