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　　申请号：201520314102.0
　　申请人：东莞市瑞鼎纳米科技有限公司
　　发明人：王俊锋

　　摘要：本实用新型属于镀膜设备技术领域，特别涉及一种CVD金刚石涂层设备，包括真空泵、镀膜箱体和基片架，所述真空泵与所述镀膜箱体连通，所述镀膜箱体具有镀膜腔，所述基片架设置于所述镀膜腔内，在所述基片架的两侧分别设置有电极钼架，两个所述电极钼架之间连接有钽丝。在基片架上安放需镀膜的样品，然后通过真空泵将镀膜腔抽气至真空状态，接着通入反应气体甲烷和氮气，再利用钽丝碳化后加热产生高温将氢气裂解电离成氢原子和等离子体，氢原子等离子体再将甲烷中的氢元素剥离形成大量有活性化学键的碳，碳碳相连组成金刚石，最后使得金刚石涂覆在样品上。本实用新型结构简单、涂层效果理想、被涂覆的产品使用寿命长。 　　主权利要求：1.CVD金刚石涂层设备，其特征在于：包括真空泵、镀膜箱体和基片架，所述真空泵与所述镀膜箱体连通，所述镀膜箱体具有镀膜腔，所述基片架设置于所述镀膜腔内，在所述基片架的两侧分别设置有电极钼架，两个所述电极钼架之间连接有钽丝。
　　2.根据权利要求1所述的CVD金刚石涂层设备，其特征在于：所述基片架包括基片台和主轴，所述主轴的输出端连接所述基片台。
　　3.根据权利要求1所述的CVD金刚石涂层设备，其特征在于：每个所述电极钼架包括电极杆及与所述电极杆连接的钽丝固定杆。
　　4.根据权利要求1所述的CVD金刚石涂层设备，其特征在于：所述真空泵通过抽气管道与所述镀膜箱体连通。
　　5.根据权利要求1所述的CVD金刚石涂层设备，其特征在于：所述镀膜箱体连接有进气管道。