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　　申请号：201610866132.1
　　申请人：浙江工业大学
　　发明人：胡晓君 仰宗春

　　摘要： 本发明提供了一种石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜，其制备方法为：用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理；采用热丝化学气相沉积法，在经过预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜，再将其置于500～650℃的空气中保温10～50min，即制得所述的石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜；本发明简单易行、容易操作，制备得到的具有强Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜与石英基体结合力较弱，为剥离获得具有Si‑V发光的纳米金刚石晶粒奠定了良好的基础，这对于实现纳米金刚石在生物标记、单光子源等领域的应用具有十分重要的科学意义和工程价值。

　　主权利要求：1.一种石英基Si-V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜，其特征在于，所述石英基Si-V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜按如下方法制备得到：(1)用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理；(2)采用热丝化学气相沉积法，在经过步骤(1)预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜，再将其置于500～650℃的空气中保温10～50min，即制得所述的石英基Si-V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜。
　　2.如权利要求1所述的石英基Si-V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜，其特征在于，所述步骤(1)的操作方法为：将纳米金刚石粉末以料液质量比1：50～150分散于去离子水中，得到纳米金刚石溶液，将石英衬底置于所得纳米金刚石溶液中，使用功率为200W的超声波振荡机进行超声波振荡0.5～3h，之后将石英衬底依次置于去离子水、丙酮中，使用功率为200W的超声波振荡机分别进行超声清洗2min，最后干燥，备用。
　　3.如权利要求1所述的石英基Si-V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜，其特征在于，所述步骤(2)的操作方法为：将经过步骤(1)预处理的石英衬底放入热丝化学气相沉积设备，以丙酮为碳源，采用氢气A鼓泡方式将丙酮带入到反应室中，氢气B、丙酮的流量比为200：90，热丝与石英衬底的距离为6～10mm，反应功率为1600～2000W，工作气压为1.63～2.63Kpa；薄膜生长时间为5～30min，在反应过程中不加偏压，薄膜生长结束后，在不通氢气B的条件下降温冷却至室温，即在石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜，再将其置于500～650℃的空气中保温10～50min，即制得所述的石英基Si-V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜。
　　4.如权利要求1所述的石英基Si-V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜，其特征在于，由尺寸为300～600nm的颗粒组成，每个颗粒中包含尺寸为纳米级的金刚石晶粒和非晶碳相。